2 月 7 日消息,2 月 7 日,上海微电子举行首台 2.5D / 3D 先进封装光刻机发运仪式,这标志着中国首台 2.5D / 3D 先进封装光刻机正式交付客户。
去年 9 月 18 日,上海微电子举行了新产品发布会,宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。
据悉,当时推出的新品光刻机主要应用于高密度异构集成领域,具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点,可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装技术的应用,满足异构集成超大芯片封装尺寸的应用需求,同时将助力封装测试厂商提升工艺水平、开拓新的工艺,在封装测试领域共同为中国集成电路产业的发展做出更多的贡献。
上海微电子曾表示,当时已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协议,首台将于年内交付。
上海微电子装备 (集团) 股份有限公司 (简称 SMEE) 主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD 面板、MEMS、LED、Power Devices 等制造领域。
特别提醒:本网信息来自于互联网,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点。其原创性以及文中陈述文字和内容未经本站证实,对本文以及其中全部或者部分内容、文字的真实性、完整性、及时性本站不作任何保证或承诺,并请自行核实相关内容。本站不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如若本网有任何内容侵犯您的权益,请及时联系我们,本站将会在24小时内处理完毕。